Silicijeva rezina za napravo

Silicijeva rezina za napravo

Ta serija silicijevih rezin-razreda naprave je natančnaoptimiziran za elektronske aplikacije, ki služi kot podlaga visoke-čistosti za naslednjo generacijo integriranih vezij. Podpira celoten industrijski spekter od2-palčni (50 mm) do 12-palčni (300 mm), so te rezine zasnovane z uporabo naprednega Czochralskega (CZ) vlečenja in nadzora padavin, da se zagotovi absolutna celovitost mreže v celotni plasti aktivne naprave.

Sinergistična površinska električna homogenost:Substratzagotavlja dosledno električno obnašanje po površiniz vzdrževanjem strogo nadzorovanega gradienta radialne upornosti (RRG). Ta enakomernost zmanjša nihanja v koncentraciji in mobilnosti nosilcev, kar je ključnega pomena za stabilizacijo mejne napetosti (Vth) in nasičenega toka pri visoki-gostotiAnalogni IC in napajalni-MOSFETarhitekture.

Podpora za stabilno delovanje naprave:Vsaka rezina je zasnovana zapodpira stabilno delovanje napravez optimizirano življenjsko dobo manjšinskega nosilca in nizko gostoto površinskih stanj. Z izvajanjem strogih postopkov zbiranja kovinskih nečistoč substrat preprečuje parazitsko uhajanje in mehko okvaro, kar zagotavlja dolgoročno-zanesljivost v težkih delovnih okoljih.

Zmanjšanje tveganja kristalnih napak: Skrbna izbira materialain naprednih protokolov za rast kristalov bistvenozmanjšati tveganje napak, kot so delci kristalnega izvora (COP) in napake zlaganja, ki jih povzroča-oksidacija (OISF). Ta strukturna popolnost ga narediidealno primeren za zahtevno izdelavo naprav, kar omogoča širše procesno okno za globoko-submikronsko fotolitografijo in visoko-razmerje-jedkanja v sodobnih avtomatiziranih livarnah.

Priljubljena oznake: silicijeve rezine za naprave, Kitajska proizvajalci silicijevih rezin za naprave, dobavitelji, tovarna