Silicijeva rezina visoke enotnosti

Silicijeva rezina visoke enotnosti

Ta serija silicijevih rezin z visoko{0}}enotnostjo je natančno zasnovana tako, da zagotavljadosledno porazdelitev materialačez celotno kristalno mrežo. Podpira celotno območje premera od2-palčni (50 mm) do 12-palčni (300 mm), ti substrati delujejo kot medij z visoko-zvestobo, zasnovan za odpravo mikroskopskih nihanj, ki lahko ogrozijo delovanje pod-mikronskih naprav v naprednih zaporedjih litografije in jedkanja.

Izboljšan nadzor procesa s pomočjo homogenosti:Z ohranjanjem ultra{0}}nizkega praga za radialno upornost in porazdelitev intersticijskega kisika je rezina znatnozmanjšuje variacijopri aktivaciji dopanta. Ta natančnost izboljša celoten nadzor procesa, kar inženirjem izdelave omogoča, da dosežejo natančnejšo porazdelitev mejnih napetosti (Vth) in nasičenih tokov vPower IC (IGBT/MOSFET) in analogniaplikacije.

Ponovljivi proizvodni rezultati:Rezina je zasnovana za podporoponovljivi proizvodni rezultativ več-serijskih proizvodnih serijah. Njegova vrhunska in optimizirana površinska morfologijaVariacija skupne debeline (TTV)zmanjšajte odmik globine--ostrenja (DOF) med fotolitografijo, kar neposredno prispeva k stabiliziranim izkoristkom-na ravni rezin in zmanjšanim deležem odpadkov v-livarnah velike količine.

Strukturna stabilnost izdelave:teenotne lastnostipovečajte splošno stabilnost proizvodnje, zlasti med-termičnimi cikli visoke-obremenitve in kemično-mehansko planarizacijo (CMP). Njegova dosledna mehanska odpornost ga narediidealno za{0}}natančne aplikacije, ki zagotavlja, da končne komponente izpolnjujejo najstrožje standarde zanesljivosti, ki jih zahtevata sektor avtomobilske in industrijske elektronike.

Priljubljena oznake: silicijeva rezina z visoko enakomernostjo, Kitajska proizvajalci, dobavitelji, tovarna silicijeve rezine z visoko enakomernostjo